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Controlled modification of octadecyltrichlorosilane self-assembled monolayer by CO2 plasma
N. Delorme 1
Auteur IdHAL : delormenicolas IdRef : https://www.idref.fr/081978995 ORCID : https://orcid.org/0000-0003-4195-2000
Jean-François Bardeau 1
Auteur IdHAL : jean-francois-bardeau IdRef : https://www.idref.fr/153325968 ORCID : https://orcid.org/0000-0001-9240-3381
Alain Bulou 2, 1
Auteur
Fabienne Poncin-Epaillard 1
Auteur
1
IMMM - Institut des Molécules et Matériaux du Mans (UFR Sciences et Techniques - Le Mans Université - Avenue Olivier Messiaen - 72085 LE MANS Cedex 9 - France)
- UM - Le Mans Université (Avenue Olivier Messiaen - 72085 Le Mans cedex 9 - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR6283 (France)
2
LPEC - Laboratoire de physique de l'état condensé (Faculté des Sciences Avenue Olivier Messiaen 72085 LE MANS CEDEX 9 - France)
- UM - Le Mans Université (Avenue Olivier Messiaen - 72085 Le Mans cedex 9 - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR6087 (France)
Liste complète des métadonnées
https://hal-univ-lemans.archives-ouvertes.fr/hal-02344153
Contributeur : Nicolas Delorme <>
Soumis le : dimanche 3 novembre 2019 - 22:14:20
Dernière modification le : mercredi 25 mars 2020 - 09:20:20
Contributeur : Nicolas Delorme <>
Soumis le : dimanche 3 novembre 2019 - 22:14:20
Dernière modification le : mercredi 25 mars 2020 - 09:20:20
Identifiants
- HAL Id : hal-02344153, version 1
- DOI : 10.1016/j.tsf.2005.09.105
Collections
UNIV-LEMANS | CNRS | INC-CNRS | IMMM-LEMANS
Citation
N. Delorme, Jean-François Bardeau, Alain Bulou, Fabienne Poncin-Epaillard. Controlled modification of octadecyltrichlorosilane self-assembled monolayer by CO2 plasma. Thin Solid Films, Elsevier, 2006, 496 (2), pp.612-618. ⟨10.1016/j.tsf.2005.09.105⟩. ⟨hal-02344153⟩
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