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Characterization of thin-film adhesion and phonon lifetimes in Al/Si membranes by picosecond ultrasonics

Martin Grossmann 1 Martin Schubert 1 Chuan He 1 Delia Brick 1 Elke Scheer 1 Mike Hettich 1 Vitali Goussev 2 Thomas Dekorsy 1, 3 
1 Department of Physics [Konstanz]
2 LAUM - Laboratoire d'Acoustique de l'Université du Mans
3 DLR - German Aerospace Center
Abstract : We quantitatively study interfacial adhesion in a two-layer membrane system consisting of Al and Siwith femtosecond time-resolved laser spectroscopy. High-frequency acoustic pulses in the sub-THz regime are utilized to characterize the membrane system. In order to explain the distinct features ofthe measured data, a spring model for the Al/Si interface is employed. We show that acousticdissipation in this system needs to be included for accurate modeling of the interface adhesion over abroad frequency range.
Keywords : interface adhesion time domain spectroscopy phonons non-destructive testing intrinsic damping
Type de document :
Article dans une revue
Liste complète des métadonnées
https://hal-univ-lemans.archives-ouvertes.fr/hal-02536022
Contributeur : Vitali Goussev Connectez-vous pour contacter le contributeur
Soumis le : mardi 7 avril 2020 - 19:34:23
Dernière modification le : vendredi 30 avril 2021 - 17:00:20

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openaccess

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Collections

CNRS | UNIV-LEMANS | LAUM

Citation

Martin Grossmann, Martin Schubert, Chuan He, Delia Brick, Elke Scheer, et al.. Characterization of thin-film adhesion and phonon lifetimes in Al/Si membranes by picosecond ultrasonics. New Journal of Physics, Institute of Physics: Open Access Journals, 2017, 19 (5), pp.053019. ⟨10.1088/1367-2630/aa6d05⟩. ⟨hal-02536022⟩

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